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1,1,3,3,3-五氟-2-(4-氧代金刚烷-1-羰基)氧基丙烷-1-磺酸盐:[4-(叔丁苯基锍鎓 (1162727- (CAS No.1162727-11-8)

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中文别名
光致产酸剂;PAG;硫鎓盐光酸产生剂
英文名称
(4-tert-Butylphenyl)diphenylsulfonium 1,1,3,3,3-pentafluoro-2-[(4-oxoadamantan-1-yl)carbonyl]oxypropane-1-sulfonate
分子式
C36H37F5O6S2
所属类别
试剂实验设备
物化性质
白色至类白色结晶粉末,分子量约724.81。溶于PGMEA(丙二醇甲醚醋酸酯)、乳酸乙酯、丙酮等有机溶剂,微溶于水。在深紫外/极紫外光照射下产生强酸,具有良好的热稳定性,对光刻胶中的酸扩散有较好的控制能力。
技术参数
纯度≥99%
外观
白色至类白色固体粉末
储存条件
避光、密封,阴凉干燥处保存
English description(英文原文,共 1267 字符)
Product Name:(4-tert-Butylphenyl)diphenylsulfonium 1,1,3,3,3-pentafluoro-2-[(4-oxoadamantan-1-yl)carbonyl]oxypropane-1-sulfonate

English Name:(4-tert-Butylphenyl)diphenylsulfonium 1,1,3,3,3-pentafluoro-2-[(4-oxoadamantan-1-yl)carbonyl]oxypropane-1-sulfonate

CAS No.:1162727-11-8

Aliases:Photoacid generator (PAG), Sulfonium salt photoacid generator

Molecular Formula:C36H37F5O6S2

Physical Properties:White to off-white crystalline powder, molecular weight approx. 724.81. Soluble in organic solvents such as PGMEA (propylene glycol methyl ether acetate), ethyl lactate, and acetone; slightly soluble in water. Generates strong acid upon deep-UV/EUV irradiation; exhibits good thermal stability and provides good control over acid diffusion in photoresists.

Uses:Used as a photoacid generator (PAG) for chemically amplified photoresists. Upon exposure to deep-UV (DUV) and extreme-UV (EUV) radiation, it generates strong acid that catalyzes the deprotection of photoresist resins, enabling high-resolution pattern development. Suitable for fine patterning in semiconductor chip manufacturing.

Technical Specifications:

Purity: ≥99%

Appearance: white to off-white solid powder

Packaging: 100 g/bottle

Storage: keep sealed in a cool, dry place away from light
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产品名称 纯度 包装规格 级别 价格 库存 操作
1,1,3,3,3-五氟-2-(4-氧代金刚烷-1… CAS 1162727-11-8 ≥99% — 工业级 电议 — 询价

常见问题

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