su-8光刻胶做微流控芯片 显影有问题
问题描述
曝光后后烘65℃ 10min,95℃ 30min,显影时发现不到三分钟就行液体进入硅片和光刻胶中间一样,腔室下有水波纹,周围还没有冲掉的情况下,腔室就开始慢慢脱落
回答
(1 个)
安逸
,喜欢交朋友
2025-12-23回答
腔室就开始慢慢脱落腔室就开始慢慢脱落
来源:盖德化工网
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曝光后后烘65℃ 10min,95℃ 30min,显影时发现不到三分钟就行液体进入硅片和光刻胶中间一样,腔室下有水波纹,周围还没有冲掉的情况下,腔室就开始慢慢脱落
安逸
,喜欢交朋友
2025-12-23回答
腔室就开始慢慢脱落腔室就开始慢慢脱落